图书介绍

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金刚石膜的生长及其在光电子技术的研究
  • 王林军著 著
  • 出版社： 上海：上海大学出版社
  • ISBN：7810587838
  • 出版时间：2002
  • 标注页数：120页
  • 文件大小：21MB
  • 文件页数：134页
  • 主题词：上海大学－博士－学位论文－汇编－2002

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图书目录

第一章　前言1

第二章　金刚石薄膜生长和应用研究概述6

2.1　人工合成金刚石的历史6

2.2　化学气相沉积（CVD）金刚石膜8

2.3　金刚石薄膜质量的影响因素14

2.4　金刚石薄膜应用研究进展15

第三章　金刚石膜的选择性定向生长研究26

3.1　引言26

3.2　实验过程28

3.3　硅衬底上选择性金刚石膜的表面形貌表征32

3.4　金刚石膜的拉曼光谱表征33

3.5　金刚石膜X射线衍射（XRD）表征35

3.6　偏压对金刚石薄膜选择性成核和生长的影响37

3.7　衬底温度对金刚石薄膜选择性沉积的影响42

3.8　A12O3衬底上金刚石膜的［100］织构生长43

3.9　小结49

第四章　金刚石膜X射线探测器的应用研究51

4.1 引言51

4.2　实验过程64

4.3　探测器用金刚石膜的形貌与结构66

4.4　器件的暗电流一电压特性70

4.5　器件在X射线下的响应特性74

4.6　器件的电流一温度特性76

4.7　小结77

第五章　金刚石膜作为多孔硅钝化膜的应用研究79

5.1 引言79

5.2　实验过程82

5.3　金刚石膜／多孔硅复合材料84

5.4　（掺氮）类金刚石膜／多孔硅复合材料95

5.5　小结101

第六章　金刚石膜的生长及应用研究总结103

6.1　论文总结103

6.2　应用展望105

参考文献107

致谢119

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